Premio Shanghai

Il Premio Shanghai è un programma di residenze destinato ad artisti emergenti di nazionalità italiana e cinese di età compresa tra i 18 e i 35 anni. Le residenze previste dal programma sono sei, tre riservate ad artisti italiani a Shanghai in Cina e tre per artisti cinesi in Italia. Il premio ha lo scopo di permettere agli artisti di sviluppare nuovi ambiti di ricerca grazie anche agli stimoli offerti dalla cultura ospitante. Il Premio Shanghai è nato da un progetto del 2011 di IGAV – Istituto Garuzzo per le Arti Visive, che ha organizzato le prime due edizioni negli anni 2012/2013 (prima edizione) e 2013/2014 (seconda edizione). Questa terza edizione 2017 è promossa dalla DGAAP (precedente acronimo dell’attuale Direzione Generale Creatività Contemporanea del Ministero della Cultura), dalla Direzione Generale per la Promozione del Sistema Paese del Ministero degli Affari Esteri e della Cooperazione Internazionale, dall’Istituto Italiano di Cultura di Shanghai, dallo Shanghai Promotion Center for City and Design (SPCCD) e dalla East China Normal University di Shanghai – School of Design (ECNU-SOD).

 

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Foto del panorama di Shanghai

2017

PREMIO SHANGHAI – EDIZIONE 3

Presentazione bando e vincitori